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產(chǎn)品型號(hào)： TM-03
所屬分類(lèi)：
產(chǎn)品時(shí)間：2024-09-06
簡(jiǎn)要描述：日本三井電氣mitsuiec實(shí)驗(yàn)性納米烙印機(jī)TM-03納米壓印法作為一種通過(guò)在樹(shù)脂或玻璃上按壓經(jīng)過(guò)數(shù)十至數(shù)百納米的超細(xì)加工的金屬模具而在短時(shí)間內(nèi)產(chǎn)生大量相同形狀的零件的技術(shù)而引起人們的注意。該方法也大致分為通過(guò)加熱軟化并進(jìn)一步冷卻和固化的熱固化方法，以及使用UV固化樹(shù)脂并通過(guò)UV光固化的光固化方法。
日本三井電氣mitsuiec實(shí)驗(yàn)性納米烙印機(jī)TM-03
納米壓印法作為一種通過(guò)在樹(shù)脂或玻璃上按壓經(jīng)過(guò)數(shù)十至數(shù)百納米的超細(xì)加工的金屬模具而在短時(shí)間內(nèi)產(chǎn)生大量相同形狀的零件的技術(shù)而引起人們的注意。該方法也大致分為通過(guò)加熱軟化并進(jìn)一步冷卻和固化的熱固化方法，以及使用UV固化樹(shù)脂并通過(guò)UV光固化的光固化方法。
該設(shè)備是一種小型的研究設(shè)備，可以打印20 mm×20 mm的樣品。迄今為止，我們已經(jīng)制造出許多壓印裝置，它們相對(duì)較大，并且我們還不能改善世界上與壓印裝置有關(guān)的問(wèn)題，例如研究成本負(fù)擔(dān)和確保安裝位置。做到了。
因此，我們創(chuàng)建了一種小型且不會(huì)占用實(shí)驗(yàn)室空間的設(shè)備，并且可以在各種條件下進(jìn)行研究。該納米壓印裝置主要是從大學(xué)研究和實(shí)驗(yàn)的角度來(lái)制造的，由于消除了納米壓印裝置的昂貴引入的圖像，因此我們?cè)诳紤]了裝置的尺寸和可用性之后也生產(chǎn)了這種尺寸的納米壓印裝置。壓印方法使用光固化方法，并且可以記錄圖形和表格數(shù)據(jù)。您為什么不比以往更輕松地嘗試使用新技術(shù)進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)實(shí)驗(yàn)？
[此設(shè)備的規(guī)格]
| 壓印方法 | 光固化方法 |
|---|---|
| 紫外線(xiàn)裝置性能 | 光強(qiáng)度400 mW / cm2 波長(zhǎng)大365 mm |
| 壓剝負(fù)荷 | 0.1?100N |
| 樣本量 | 20毫米x 20毫米 |
| 壓機(jī)剝離速度 | 1?1000微米/秒 |
| 電源供應(yīng) | 100伏交流電 |
| 樣品板 | 硅晶片/玻璃基板 |
| 設(shè)備重量 | 約25kg |
到目前為止，納米壓印設(shè)備已經(jīng)在各個(gè)地方進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)，并且每天都在進(jìn)行實(shí)際研究。到目前為止，我們已經(jīng)制造了各種壓印設(shè)備，但是還沒(méi)有制造簡(jiǎn)單的壓印設(shè)備。
因此，我們創(chuàng)建了前suo未有的納米壓印設(shè)備，其概念是“無(wú)論光固化電源的位置如何，都可以攜帶一個(gè)簡(jiǎn)單的便攜式壓印設(shè)備”。設(shè)備上裝有LED型紫外線(xiàn)燈，并使用電機(jī)驅(qū)動(dòng)器進(jìn)行升降，調(diào)節(jié)升降速度的操作很簡(jiǎn)單。
多可施加200N的壓力傳遞壓力，而Φ20則可用于基材。首先，對(duì)于那些希望通過(guò)簡(jiǎn)單的測(cè)試機(jī)廉價(jià)地打標(biāo)的人來(lái)說(shuō)，這是一臺(tái)推薦的機(jī)器。
[此設(shè)備的規(guī)格]
| 壓印方法 | 光固化方法 |
|---|---|
| 紫外線(xiàn)裝置性能 | 光強(qiáng)度6.0 mW / cm2 波長(zhǎng)大370 mm |
| 壓載 | 1?20牛 |
| 樣本量 | 10毫米x 10毫米 |
| 壓機(jī)剝離速度 | 20毫米/秒 |
| 電源供應(yīng) | AC100V或 DC12V 2.3A小電池 |
| 樣品板 | 硅晶片/玻璃基板 |
| 設(shè)備尺寸 | 高469 x寬300 x深200（毫米） |
本設(shè)備使用EB曝光系統(tǒng)通過(guò)熱固化或UV固化在大直徑輥（Φ150）上雕刻刻有輥壓印模具小直徑輥（Φ30）的納米圖案，以形成小直徑輥圖案。這是一種測(cè)試輥壓印設(shè)備，可將這種大直徑輥式模具的納米圖案轉(zhuǎn)印到薄膜上，然后將薄膜轉(zhuǎn)印到大直徑輥上。
[此設(shè)備的規(guī)格]
| 壓印方法 | 熱固化法/ UV固化法 |
|---|---|
| 滾滾 | Φ300x 150 |
| 按對(duì)象 | 0.08?0.2噸 |
| 大輥壓負(fù)荷 | 500N |
| 單位面積負(fù)荷 | 3.92牛頓/毫米² |
| 涂布方式 | 尺寸壓制法/逗號(hào)滾模法 |
該裝置的納米壓印裝置可以通過(guò)該單元實(shí)現(xiàn)同時(shí)具有熱固化和光固化的兩種方法，并且壓印是通過(guò)從頂部進(jìn)行印刷壓力來(lái)進(jìn)行的。
除了設(shè)置所需的壓力負(fù)荷/速度和剝離負(fù)荷/剝離速度以外，還可以在PC上記錄研究/開(kāi)發(fā)試生產(chǎn)所需的各種條件和測(cè)量結(jié)果，以便將來(lái)進(jìn)行生產(chǎn)。它是在設(shè)置條件中起作用的設(shè)備。
[此設(shè)備的規(guī)格]
| 壓印方法 | 熱固化法/光固化法 |
|---|---|
| 壓力/加載速度（總壓力） | 1?1000微米/秒 |
| 大負(fù)荷 | 從室溫到250°C |
| 工作尺寸 | 50 x 50毫米 |
【測(cè)試條件】
